簡要描述:SuperViewW1輪廓度光學(xué)測量儀由照明光源系統(tǒng),光學(xué)成像系統(tǒng),垂直掃描系統(tǒng)以及數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)構(gòu)成。針對芯片封裝測試流程的測量需求,SuperViewW1非接觸式光學(xué)輪廓測量儀的X/Y方向標準行程為140*100mm,滿足減薄后晶圓表面大范圍多區(qū)域的粗糙度自動化檢測、鐳射槽深寬尺寸、鍍膜臺階高等微納米級別精度的測量。而SuperViewW1-Pro 型號增大了測量范圍,可覆蓋8英寸及以下晶圓,定
產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
品牌 | 中圖儀器 | 產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
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加工定制 | 否 |
SuperViewW1輪廓度光學(xué)測量儀采用光學(xué)干涉技術(shù)、精密Z向掃描模塊和3D重建算法組成測量系統(tǒng),保證測量精度高,測量與分析同界面操作,無須切換,測量數(shù)據(jù)自動統(tǒng)計,實現(xiàn)了快速批量測量的功能。其重建算法自動濾除樣品表面噪點,在硬件系統(tǒng)的配合下,分辨率可達0.1nm。
1)設(shè)備提供表征微觀形貌的粗糙度和臺階高、角度等輪廓尺寸測量功能;
2)測量中提供自動對焦、自動找條紋、自動調(diào)亮度等自動化輔助功能;
3)測量中提供自動拼接測量、定位自動多區(qū)域測量功能;
4)分析中提供校平、圖像修描、去噪和濾波、區(qū)域提取等四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能;
5)分析中提供粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能;
6)分析中同時提供一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能。
SuperViewW1輪廓度光學(xué)測量儀由照明光源系統(tǒng),光學(xué)成像系統(tǒng),垂直掃描系統(tǒng)以及數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)構(gòu)成。針對芯片封裝測試流程的測量需求,SuperViewW1非接觸式光學(xué)輪廓測量儀的X/Y方向標準行程為140*100mm,滿足減薄后晶圓表面大范圍多區(qū)域的粗糙度自動化檢測、鐳射槽深寬尺寸、鍍膜臺階高等微納米級別精度的測量。而SuperViewW1-Pro 型號增大了測量范圍,可覆蓋8英寸及以下晶圓,定制版真空吸附盤,穩(wěn)定固定Wafer;氣浮隔振+殼體分離式設(shè)計,隔離地面震動與噪聲干擾。
對各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進行測量和分析。
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