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粗糙度測量設備

簡要描述:Bump是一種金屬凸點,從倒裝焊FlipChip出現(xiàn)就開始普遍應用,Bump的形狀有多種,最常見的為球狀和柱狀,也有塊狀等其他形狀,下圖所示為各種類型的Bump。粗糙度測量設備

  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-03-08
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品牌中圖儀器產(chǎn)地國產(chǎn)
加工定制

粗糙度測量設備應用

在半導體行業(yè)中,BumpRDL、TSV、Wafer合稱先進封裝的四要素,其中Bump起著界面互聯(lián)和應力緩沖的作用。

Bump是一種金屬凸點,從倒裝焊FlipChip出現(xiàn)就開始普遍應用,Bump的形狀有多種,最常見的為球狀和柱狀,也有塊狀等其他形狀,下圖所示為各種類型的Bump。

Bump起著界面之間的電氣互聯(lián)和應力緩沖的作用,從Bondwire工藝發(fā)展到FlipChip工藝的過程中,Bump起到了至關(guān)重要的作用。隨著工藝技術(shù)的發(fā)展,Bump的尺寸也變得越來越小,從最初 Standard FlipChip的100um發(fā)展到現(xiàn)在最小的5um。
伴隨著工藝技術(shù)的高速發(fā)展,對于Bump的量測要求也不斷提高,需要把控長寬尺寸,高度均勻性,亞納米級粗糙度、三維形貌等指標。
以粗糙度指標為例,電鍍工藝后的Cu 凸點表面粗糙并存在一定的高度差,所以鍵合前需要對其表面進行平坦化處理,如化學機械拋光(CMP),使得鍵合時Cu 表面能夠充分接觸,實現(xiàn)原子擴散,由此可見把控Bump表面粗糙度是必*過程。
為了貼合工藝制程,積極響應客戶Bump 計量需求,中圖儀器以高精度、多功能合一等優(yōu)勢將自研量測設備推向眾多優(yōu)質(zhì)半導體客戶。BOKI_1000系統(tǒng)支持鍵合、減薄、翹曲和切割后的基板,可以為包括切割后、預鍵合、銅焊盤圖案化、銅柱、凸塊Bump、硅通孔(TSV)和再分布層(RDL)在內(nèi)的特征提供優(yōu)異的量測能力。
圖片
以上為量測Bump時的實時圖像

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